你好,欢迎来到快科报,懂你更懂科技。
当前位置: 首页 - 热点 - 正文

上海微系统所在300mmSOI晶圆制造技术方面实现突破

来源:电子工程网 时间:2023-10-24 04:00 阅读量:15357   
导读1.jpg 2.jpg 图2.国内第一片300mmRF-SOI晶圆;(b)RF-SOI晶圆剖面TEM照片;(c)RF-SOI晶圆顶层硅厚度分布;(d)RF-SOI晶圆表面AFM图目前,RF-SOI晶圆,已经成为射频应用的主流衬底材料...

1.jpg

上海微系统所在300mmSOI晶圆制造技术方面实现突破

2.jpg

图2. 国内第一片300 mm RF-SOI晶圆;(b) RF-SOI晶圆剖面TEM照片;(c) RF-SOI晶圆顶层硅厚度分布;(d) RF-SOI晶圆表面AFM图目前,RF-SOI晶圆,已经成为射频应用的主流衬底材料,占据开关、低噪放和调谐器等射频前端芯片90%以上的市场份额。随着5G网络的全面铺开,移动终端对射频模块的需求持续增加,射频前端芯片制造工艺正在从200 mm到300mm RF-SOI过渡,借此机会,国内主流集成电路制造企业也在积极拓展300mm RF-SOI工艺代工能力。因此,300 mm RF-SOI晶圆的自主制备将有力推动国内RF-SOI芯片设计、代工以及封装等全产业链的协同快速发展,并为国内SOI晶圆的供应安全提供坚实的保障。

免责声明:该文章系本站转载,旨在为读者提供更多信息资讯。所涉内容不构成投资、消费建议,仅供读者参考。

为您推荐